エキシマ照射装置
アプリケーション例
フォトマスク検査前除電
ウェハ除電（回路破損防止）
ガラス表面有機物除去（ドライクリーニング）
コート前表面改質（密着性向上）
メッキ前表面改質（微細メッキ浸透）
電子基板の接合前処理（密着性向上）
エキシマランプとは
エキシマランプとは、従来の放電灯（水銀ランプやキセノンランプ等）と異なる発光原理、構造で、真空紫外光を照射できる光源です。
エキシマランプでは従来の光洗浄改質で用いられてきた水銀ランプ（波長185nmと254nm）に比べるとフォトンエネルギーが高い、波長172nmの真空紫外光（VUV)を発生します。
瞬時の点灯消灯が可能で、アイドリングを必要としません。
ダメージレス表面処理
フォトンエネルギーの高い172nm(真空紫外線)により効率よく炭素結合を切断、活性酸素・オゾン生成を行うことでダメージを与えず表面処理を行えます。
高照度・高均一性
独自技術である面全面が発光する”フラットタイプ”によりワーク全面を一括照射できます。全面照射することで高照度で照射ムラのない均一な照射が可能となります。
製品ラインナップ
フラットタイプ
| Semiconductor | QEF-300SPC | QEF-230SPC | QEF-160 | QEF-100 | QEF-35ST | QEF-35ST-V126 |
| 波長 | 172nm | 126nm | ||||
| ユーティリティ | N2/冷却水/AC100～240V | |||||
| 分布 | ±5% | ±7% | ||||
| 照射開口 | φ332mm | 218×218mm | 167×167mm | φ100mm | φ35mm | φ35mm |
| 対応ワークサイズ | 12inch | 8inch | 6inch | 4inch | – | – |
| 照度（窓面最大） | 80mW/cm² | 80mW/cm² | 30mW/cm² | 30mW/cm² | 5mW/cm² | 5mW/cm² |
| FPD | QEF-1600 | QEF-600 | QEF-320 |
| 波長 | 172nm | ||
| ユーティリティ | N2/冷却水/AC100～240V | ||
| 分布 | ±10% | ||
| 照射開口 | 70×1570mm | 70×620mm | 70×312mm |
| 対応ワークサイズ | G6 | G3 | – |
| 照度（管面最大） | 180mW/cm² | 180mW/cm² | 100mW/cm² |
チューブタイプ
| Semiconductor | QEV-360 | QEV-230 | QEV-160 |
| 波長 | 172nm | ||
| ユーティリティ | N2/冷却水/AC100～240V | ||
| 分布 | ±15% | ||
| 照射開口 | 340×340mm | 216×216mm | 176×176mm |
| 対応ワークサイズ | 12inch | 8inch | 6inch |
| 照度（窓面最大） | 15mW/cm² | ||
| FPD | QEV-1200 | QEV-850 | QEV-750 | QEV-150 |
| 波長 | 172nm | |||
| ユーティリティ | N2/冷却水/AC100～240V | N2/AC100～240V | ||
| 分布 | ±15% | |||
| 照射開口 | 25×1200mm | 25×850mm | 25×750mm | 25×172mm |
| 対応ワークサイズ | 幅1200mm | 幅850mm | 幅750mm | 幅150mm |
| 照度（管面最大） | 50mW/cm² | |||
エキシマランプ 面発光 一括照射 紫外線ランプ 172nm UV光源 UV硬化 表面改質 エキシマ Excimer172 紫外線照射装置 紫外線照射器 UV照射器 UV照射装置